制備硫酸亞錫的離子膜電解槽的制作方法

2021-04-21 09:21:03

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硫酸亞錫，分子式為SnSO4，分子量為214.75，是一種白色或淺黃色結(jié)晶粉末，能溶于水及稀硫酸，水溶液迅速分解，主要用途是用于鍍錫或化學(xué)試劑。

用于制備硫酸亞錫的離子膜電解槽，包括混凝土地面和鋁合金板，混凝土地面的內(nèi)部預(yù)埋有電解池，電解池的內(nèi)壁中側(cè)對(duì)稱安裝有方形框，方形框的內(nèi)壁中側(cè)固定安裝有隔膜，電解池的內(nèi)部包含有氮化硅層、硅鎂合金層、膨脹珍珠巖層、硬泡聚氨酯層和硅酸鹽層，鋁合金板的外側(cè)緊密包覆有ABS層，ABS層的下端左右側(cè)對(duì)稱粘接有陽(yáng)極板，ABS層的下端中側(cè)粘接有陰極板，ABS層的下端四側(cè)粘接有插柱，電解池的上端四側(cè)設(shè)有圓柱，圓柱的內(nèi)部設(shè)有圓插槽，圓插槽的內(nèi)部滑動(dòng)插接插柱。

該用于制備硫酸亞錫的離子膜電解槽，氮化硅層不與電解池內(nèi)物質(zhì)反應(yīng)，且無(wú)導(dǎo)電性，其次具有很好的強(qiáng)度，膨脹珍珠巖層和硬泡聚氨酯層具有很好的隔熱性，有效隔絕地下溫度滲入電解池內(nèi)部化合物內(nèi)，可對(duì)地下較低的溫度與電解池內(nèi)的化合物進(jìn)行隔離，保護(hù)電解池內(nèi)化合物電解條件，將陰極板和陽(yáng)極板對(duì)應(yīng)電解池插入，同時(shí)將插柱對(duì)應(yīng)圓插槽插入，通過(guò)四側(cè)的圓插槽與插柱的插入配合，限制陽(yáng)極板和陰極板橫向移動(dòng)，使得陽(yáng)極板和陰極板穩(wěn)定安置在電解池內(nèi)，相對(duì)一塊一塊的將陽(yáng)極板和陰極板從電解池內(nèi)插入拿出，更加方便。

硫酸亞錫